동급 최강 여과 기능·프라이밍 속도 향상
표적 오염 물질 효과적 제거 가능
인테그리스가 최첨단 POU(point-of-use) 포토리소그래피 애플리케이션을 위한 혁신적인 Oktolex 멤브레인 기술을 공개했다.
30일 서울 강남구 그랜드 인터컨티넨탈에서 열린 인테그리스 세미콘 코리아 2018 기자간담회에서 홍완철 사장은 "이 기술은 동급에서 최강의 여과 기능, 프라이밍 속도 향상 및 장비 다운타임 단축을 실현하는데 기여할 것으로 예상한다"고 말했다.
Oktolex의 혁신적인 멤브레인은 각 화학 물질의 요구에 맞게 각 멤브레인 유형들이 저마다 보유한 고유의 메커니즘을 강화해 중요한 광화학적 오염 물질을 제거한다.
Oktolex 멤브레인은 특정 오염 물질 흡착 메커니즘에 멤브레인 특성을 일치시킴으로써 화학적 조성과의 불리한 상호 작용없이 제거 성능을 최적화한다.
인테그리스의 미세오염제어 사업부문을 총괄하는 클린트 하리스(Clint Haris) 수석 부사장 겸 제너럴 매니저는 "로직, DRAM, 3D NAND 디바이스 제조용 ArF, KrF 및 EUV 애플리케이션의 특정 오염 제어 요구 사항에 대한 맞춤형 접근 방식을 통해 가장 까다로운 오염 물질을 제거할 수 있는 보다 빠르고 깨끗하고 효과적인 방법을 개발했다"고 설명했다.
그는 "이 기술의 진정한 이점은 화학적 조성을 변화시키지 않으면서 표적 오염 물질을 효과적으로 제거하는 멤브레인을 만들 수 있다는 점"이라며 "이러한 이점들 덕분에 인테그리스는 고객과의 협력을 통해 첨단 노드의 요구 사항을 충족하고 장비의 다운타임을 줄이는 정밀 오염 제거 솔루션을 만들 수 있다"고 말했다.
Oktolex 기술은 현재 Entegris Impact 8G point-of-use 광화학 필터로 이용 가능하다.
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