삼성전자, 평택 2라인 가동…"반도체 초격차 전진기지"

송고 2020.08.30 11:00 | 수정 2020.08.30 09:31
EBN 손병문 기자 (moon@ebn.co.kr)

축구장 16개 넓이 미래 반도체 심장부...차세대 V낸드·초미세 파운드리 생산

업계 최초 EUV 공정 적용 1z나노 16Gb 모바일 D램 양산...전장용 확대 추진

삼성전자 평택 2라인 전경 ⓒ

삼성전자가 평택 반도체 2라인 가동을 시작했다. 연면적 12만8900㎡(축구장 16개 넓이)에 달하는 세계 최대 규모 반도체 생산라인이다. 지난 2018년 8월 발표한 180조원 투자, 4만명 고용 계획의 일환으로 지어졌다.

30일 삼성전자에 따르면 이 곳에선 업계 최초로 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 공정을 적용한 첨단 3세대 10나노급(1z) LPDDR5 모바일 D램이 생산된다. D램 양산을 시작으로 차세대 V낸드, 초미세 파운드리 제품까지 생산하는 첨단 복합 생산라인으로 구축된다. 4차 산업 혁명 시대의 반도체 초격차 달성을 위한 핵심 기지로 육성된다.

삼성전자는 평택 2라인에 지난 5월 EUV 기반 최첨단 제품 수요에 대비하기 위한 파운드리 생산라인을 착공했다. 6월에는 첨단 V낸드 수요 확대에 대응하기 위한 낸드플래시 생산라인도 착공했다. 두 라인 모두 2021년 하반기부터 본격 가동할 예정이다.

평택 1라인에 이어 이번 평택 2라인에 총 30조원 이상의 대규모 투자가 집행된다. 직접 고용하는 인력은 4000명, 협력사 및 건설인력을 포함하면 3만명 이상의 고용창출이 예상된다.

2015년부터 조성된 평택캠퍼스는 289만㎡의 부지를 가진 삼성전자의 차세대 반도체 전초기지다. 평택 1라인은 2017년 6월 양산을 시작, 평택 2라인은 2018년 1월 착공해 이번에 처음으로 D램 제품을 출하했다.

평택 2라인에서 이번에 출하된 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 메모리 양산제품으로는 처음 EUV 공정이 적용됐다. 역대 최대 용량과 최고 속도를 동시에 구현한 업계 최초 3세대 10나노(1z) LPDDR5 제품이다.

기존 플래그십 스마트폰용 12Gb 모바일 D램(LPDDR5, 5500Mb/s)보다 16% 빠른 6400Mb/s의 속도를 구현한다.

16GB 제품 기준으로 1초당 풀HD급 영화(5GB) 10편에 해당하는 51.2GB를 처리할 수 있다.

또한 16Gb LPDDR5 모바일 D램은 8개의 칩만으로 16GB 제품을 구성할 수 있어 기존 제품(12Gb 칩 8개+8Gb 칩 4개)대비 30% 얇은 패키지를 만들 수 있다.

삼성전자는 글로벌 스마트폰 업체들에게 차세대 1z 16GB 모바일 D램을 업계 유일하게 제공함으로써 내년 출시되는 AI 기능이 강화된 5G 플래그십 스마트폰 시장을 선점할 계획이다. 또한 고온 신뢰성도 확보해 전장용 제품까지 사용처를 확대해 나갈 예정이다.

삼성전자 메모리사업부 DRAM개발실 이정배 부사장은 "1z나노 16Gb LPDDR5는 역대 최고 개발 난도를 극복하고 미세공정 한계 돌파를 위한 새로운 패러다임을 제시한 제품"이라며 "프리미엄 D램 라인업을 지속 확대해 고객 요구에 빠르게 대응하고 메모리 시장 확대에 기여할 것"이라고 말했다.

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