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한국머크, 반도체 세정액용 친환경 용매 출시

  • 송고 2021.07.23 09:43 | 수정 2021.07.23 09:51
  • EBN 이혜미 기자 (ashley@ebn.co.kr)

신속한 처리 및 친환경 제거 공정 가능

지속가능한 미래를 위해 제품과 기술 혁신


반도체 웨이퍼. ⓒ한국머크

반도체 웨이퍼. ⓒ한국머크

한국머크는 23일 반도체 제조 포토리소크래피 공정에 사용되는 새롭게 보완된 친환경 용매 제품을 발표했다.


AZ® 910 리무버(AZ® 910 Remover)는 보다 비용 효율적인 방식으로 새롭게 배합된 제품으로, 인체에 유해한 NMP를 사용하지 않으면서도 패터닝된 포토레지스트를 빠르게 용해할 수 있도록 설계됐다.


포토레지스트의 전체 부피에 3배 미만의 용액으로도 충분히 포토레지스트를 제거할 수 있어서 고객사의 비용을 절감하는 동시에 환경적 영향도 줄여준다.


머크 반도체 소재 사업부 대표인 아난드 남비아는 "머크는 차세대 반도체 구현에 핵심적인, 세정에 대한 더 높은 니즈를 가진 고객들을 지원하기 위해 혁신적이며 비용 효율적인 솔루션을 개발했다"고 소개했다.


이어 "지속가능성은 머크 기업 전략의 필수 요소이며, 머크는 고객사에 장기적인 가치를 창출하면서도 환경 측면의 니즈를 만족시키는 제품 및 기술 개발에 전념하고 있다"고 강조했다.


AZ® 910 리무버 포트폴리오는 복잡하고 비싼 NMP 기반 화학구조를 대체할 대안적인 솔루션을 제공한다. 네거티브 및 포지티브 톤 포토레지스트를 웨이퍼 표면에서 들어올려 제거하는 형식의 NMP 기반 제품과 다르게 네거티브와 포지티브 톤 포토레지스트를 모두 용해해 제거하는 방식이다.


이러한 참신한 접근법을 사용하면 제거공정에 걸리는 시간을 반으로 줄이고, 화학구조와 필터 수명이 연장돼 비용을 대폭 개선할 수 있다.


머크는 급성장 중인 반도체 세정제품 시장의 주요 플레이어로, 포토공정의 모든 단계를 다루는 폭넓은 솔루션 포트폴리오를 보유하고 있다.


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